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本儀器是一種具有兩個(gè)蒸發(fā)源的高真空蒸發(fā)鍍膜儀，鎢絲籃（或鎢舟）用作蒸發(fā)源，并且樣品臺(tái)和蒸發(fā)源之間的距離是可調(diào)的。 該儀器可以穩(wěn)定地蒸發(fā)金屬和某些有機(jī)物。 采用高真空不銹鋼腔體，密封性能好，真空性能好。 該腔室配有觀察窗，因此可以看到涂層過程。 采用分子泵系統(tǒng)的**真空10E-5Pa，可有效提高涂層質(zhì)量，并能滿足大多數(shù)蒸發(fā)涂層實(shí)驗(yàn)所需的真空環(huán)境。
高真空熱蒸發(fā)鍍膜儀用途：
高真空雙源熱蒸發(fā)鍍膜儀適用于蒸發(fā)涂覆大多數(shù)金屬和某些有機(jī)材料薄膜。
高真空熱蒸發(fā)鍍膜儀技術(shù)參數(shù)：
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產(chǎn)品名稱 |
高真空雙源熱蒸發(fā)鍍膜儀 |
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產(chǎn)品型號(hào) |
CY-EVV195-II-HH-SS |
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樣品臺(tái) |
位 置 |
頂部設(shè)置 |
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外形尺寸 |
直徑φ65mm |
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轉(zhuǎn) 速 |
0-20 rpm |
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間 距 |
樣品架和蒸發(fā)源之間的距離可調(diào) |
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可調(diào)溫度 |
≦500℃ |
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熱蒸發(fā)源 |
鎢絲籃×2個(gè)，鎢舟×2個(gè) |
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蒸發(fā)電源 |
每個(gè)蒸發(fā)源配一組獨(dú)立電源；雙個(gè)蒸發(fā)源可同時(shí)共蒸 |
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真空腔體 |
腔體尺寸 |
直徑φ195mm×H210mm |
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觀察窗口 |
直徑φ100mm |
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腔體材質(zhì) |
304不銹鋼 |
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開啟方式 |
上開蓋 |
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膜厚測(cè)量 |
晶體膜厚測(cè)量?jī)x（也可選膜厚控制儀） |
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真空系統(tǒng) |
前級(jí)泵 |
雙極旋片泵，氣體抽速1.1L/S |
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次級(jí)泵 |
渦輪分子泵,氣體抽速600L/S |
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真空測(cè)量 |
復(fù)合真空計(jì)(電離規(guī)+電阻規(guī)) |
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系統(tǒng)真空 |
5×10-4Pa |
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控制系統(tǒng) |
CYKY自研專業(yè)級(jí)控制器 |
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其他參數(shù) |
供電電源 |
AC380V,50Hz |
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整機(jī)尺寸 |
600mm×650mm×1500mm |
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整機(jī)功率 |
7KW |
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整機(jī)重量 |
260kg |
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