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CY-MSZ180-I-DC-Q磁控濺射鍍膜儀的特點
1：設有真空表、濺射電流表，可實時監控設備工作狀態。
2：可通過調節濺射電流控制器和微型真空閥來控制真空室壓強、電離電流，以獲得*佳鍍膜效果。
3：真空室石英腔體邊緣的橡膠密封圈采用了特殊設計，得以保證真空室長期使用且不出現崩邊現象。
4：用更加經久耐用的陶瓷橡膠密封圈取代了通常用的橡膠密封。
5：采用了大容量濺射真空室和相應面積的濺射靶，是濺鍍出的膜層更加均勻純凈。
6：濺射頭采用了特殊的制冷技術，可以得到高性能、精細顆粒的圖層。
7：可用水冷濺射頭、水冷載物臺。
技術參數：
產品名稱
桌面型單靶磁控鍍膜儀
產品型號
CY-MSZ180-I-DC-Q
樣品臺
外形尺寸
φ100mm
加熱溫度
≦500℃
可調轉速
≦20rpm
磁控靶槍
配一支兩英寸磁控靶，靶材尺寸:直徑50.8mm，厚度≦3mm
真空腔體
腔體尺寸
φ180mm X 215mm
觀察窗口
全向透明
腔體材料
高純石英
開啟方式
上蓋拆卸式
真空系統
前級泵
低噪音雙極旋片泵
分子泵
低噪音大抽速渦輪分子泵
真空測量
復合真空計，量程:10-5~105Pa
抽氣接口
KF16
抽氣接口
KF40
排氣接口
KF16
系統真空
1.0×10-4Pa
供電電源
AC 220V 50/60Hz
抽氣速率
分子泵抽速600L/s，前級泵抽速1.1L/s
電源配置
電源數量
直流電源一套
輸出功率
≦150W
其他參數
供電電壓
AC220V,50Hz
整機功率
2kW
整機尺寸
550mm X 350mm X400mm
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